深圳南山杀出一个超级IPO:全国第一,打破垄断
创始人
2024-08-12 18:55:53
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经过17年,在“南中国的硅谷”深圳(南山区),这颗“中国光掩膜行业的青苗”终于长成一棵参天大树,最近向IPO冲刺。

近日,清溢光电宣布了其2023年度向特定对象发行A股股票的计划,该计划已于2024年8月提交上海证券交易所审核并通过中国证监会的同意注册。

本次发行计划募集资金总额不超过12亿元人民币。募集资金将用于“高精度掩膜版生产基地建设项目一期”和“高端半导体掩膜版生产基地建设项目一期”,这两个项目将帮助公司扩大产能和提高技术水平。

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清溢光电主要从事掩膜版的研发、设计、生产和销售业务,是国内最早成立且规模最大的掩膜版生产企业之一。

什么是掩膜版?掩膜版(Photomask,也常被称为光罩)就像是半导体制造过程中的“底片”。在摄影中,底片记录了照片的影像,而在芯片制造中,掩膜版则承载了电路设计的图案。想象一下,当你用照相机拍照时,光线通过镜头聚焦在底片上,底片感光后就保存了照片的信息。同样地,在制造芯片时,掩膜版上的图案通过光刻技术,使用光线把图案精确地复制到硅晶圆上。

它主要应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业,这些行业的产品广泛应用于下游消费电子(如电视、手机、笔记本电脑、平板电脑、可穿戴设备)、车载电子、人工智能、网络通信、家用电器、LED照明、工控电子等领域。

清溢光电创立于1997年8月,由清溢精密光电(深圳)有限公司整体改制而来。

1997年8月。当时,由北京清华液晶技术工程研究中心、中国香港美维集团有限公司、深圳市金汇新电子有限公司和广东溢源有限公司共同投资设立了清溢精密光电(深圳)有限公司。

1997年8月25日正式成立。清溢光电的前身是清溢有限,即清溢精密光电(深圳)有限公司。公司在成立之初便致力于掩膜版的研发、设计、生产和销售业务,是国内最早成立的掩膜版生产企业之一。通过不断进行研发投入和产品创新,清溢光电的技术始终保持国内领先,并多次填补国内空白。

2008年12月被认定为深圳市首批“国家高新技术企业”。公司拥有深圳市光掩膜技术研究开发中心和广东省光掩膜工程技术研究开发中心,在国内掩膜版领域,代表了中国掩膜版产业的领先技术水平。公司精益求精,不断创新,致力于成为中国掩膜版行业的领跑者,先进的掩膜版产品和服务提供商。

2016年10月成功研制AMOLED用高精度掩膜版,成为全球具备AMOLED用高精度掩膜版生产能力的厂家之一,打破了国内AMOLED用高精度掩膜版完全依赖国外进口的局面。公司于2018年5月,生产了国内第一台8.5代CD测量机;同年,国内第一台8.5代贴膜机也随之诞生。

清溢光电被誉为“中国掩膜版行业的领跑者,先进掩膜版产品和服务的提供商”。公司是国家高新技术企业,并且是《薄膜晶体管(TFT)用掩模版规范》行业标准起草单位。

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这家公司的最稀缺价值是什么?它是平板显示掩膜版领域国内规模最大的企业之一,尤其在AMOLED/LTPS等高精度掩膜版领域具有较强的技术实力。公司在国内市场占有重要地位,并且在不断缩小与国际竞争对手之间的技术差距。

清溢光电的主要客户包括京东方、维信诺、惠科股份、深天马、华星光电、信利、龙腾光电、群创光电、瀚宇彩晶等平板显示行业的知名企业,以及芯联集成、三安光电、艾克尔、士兰微、泰科天润、积塔半导体、华微电子、赛微电子和长电科技等半导体领域的客户。公司通过提供高质量的掩膜版产品,帮助客户提高产品良率和生产效率,满足客户对高精度掩膜版的需求。

公司在平板显示掩膜版领域积累了丰富的核心技术,特别是在AMOLED/LTPS及高分辨率TFT-LCD显示屏用掩膜版方面,公司通过不断的研发投入,实现了技术突破。在半导体掩膜版领域,公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,并正积极推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺掩膜版的开发,以及28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

清溢光电长期专注于自主创新,已取得多项专利及技术成果,在产品研发和设计方面具有明显优势。截至2024年3月31日,公司已掌握了68项核心工艺技术,累计获授境内外专利101项和软件著作权47件,其中发明专利32项,实用新型专利69项。这表明公司在掩膜版领域的技术研发能力处于行业领先地位。

根据财务数据显示,清溢光电在过去三年实现了稳定的收入和净利润增长。,公司营业收入分别为 54,391.24万元、76,215.40 万元、92,416.22 万元和 27,182.34 万元,净利润分别为 4,452.58万元、9,903.16 万元、13,386.72 万元和 4,959.08 万元。公司盈利能力的提升主要得益于市场需求的增长以及公司产品结构的优化。

清溢光电上市后将加快募投项目的实施,特别是“高精度掩膜版生产基地建设项目一期”“高端半导体掩膜版生产基地建设项目一期”项目,项目达产后,公司将形成新增每年产能 2,665 张高精度掩膜版及 25,120 张高端半导体掩膜版。

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