国家知识产权局信息显示，沈阳中科惠友科技发展有限责任公司取得一项名为“一种INEOS电解槽压力试漏装置”的专利，授权公告号CN224001529U，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种INEOS电解槽压力试漏装置，其涉及电解槽测试技术领域，包括密封底板、密封胶垫、电解槽、压条、钢架和多个螺杆，所述电解槽包括边四周边缘向外延伸的折边，所述折边上均匀开设有多个第三通孔，所述密封底板与电解槽的尺寸相匹配且对应第三通孔的位置开设有第一通孔，所述密封胶垫的尺寸与折边相匹配，密封胶垫上开设有与第一通孔相对应的第二通孔；本实用新型通过钢架边缘的多个螺杆搭配螺母对钢架、压条、电解槽、密封胶垫以及密封底板进行固定，钢架对电解槽表面进行抵接保护，避免电解槽压力过大而变形，通过杆帽挤顶压条对电解槽的折边整体压紧，提升密封性，从而提升测试的安全性和精准度。

天眼查资料显示，沈阳中科惠友科技发展有限责任公司，成立于1999年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳中科惠友科技发展有限责任公司参与招投标项目12次，专利信息41条，此外企业还拥有行政许可6个。

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来源：市场资讯